В то время, как Китай пытается повторить источник излучения по технологии ASML на 13,5 нм (выстрел лазером по летящей капле олова с соответствующим разлетанием микрочастиц по объему камеры и загрязнением оптики), Россия развивает совершенно другую технологию на 11.2 нм.
Пруфы
- 2024 г. Новая концепция развития высокопроизводительной рентгеновской литографии
- 2025 г. Патент RU2835671C1 - Генератор экстремального ультрафиолетового излучения на основе разряда, поддерживаемого высоким постоянным напряжением в резконеоднородном потоке газа
- 2026 г. В Институте физики микроструктур РАН создан уникальный стенд, который является прототипом лазерно-плазменного источника рентгеновского литографа нового поколения на длину волны 11,2 нм
Как вам такое развитие событий?
Перемещено dataman из linux-org-ru


