LINUX.ORG.RU

Форум «Science & Engineering» — Архив 2026, Август

11

Россия разработала источник лазерного излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) (Xintrea)

длина волны 11.2 нм литография микроэлектроника

I-Love-Microsoft,

-

#diy микроэлектроника «в гараже» (Andrew-R)

полупроводники

Andrew-R,

82

НМ-тех, 130 нм на 200 мм пластинах и 2028 год. На старом оборудовании AMD. (tiinn)

amd ангстрем литограф

VIT,

470

Электросамолеты - будущее авиации? (Leupold_cat)

авиация прогресс

bernd,

265

Китай разработал источник лазерного излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) (tiinn)

импортозамещение китай лазеры

pfg,



RSS-подписка на новые темы